Новая компактная установка для литографии приблизила Китай к независимости в производстве чипов

24.11.2025

Китайские исследователи разработали новый настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения для литографии, что стало важным шагом на пути страны к самообеспеченности в области производства микрочипов. По сообщениям, новая технология позволяет производить микросхемы с топологическим узлом 14 нанометров. Хотя разработка не может заменить традиционные машины голландской компании ASML, она предлагает перспективную альтернативу для выпуска небольших партий чипов при необходимости. Как отмечается, новая технология также может использоваться для других важных задач, таких как инспекция чипов, создание прототипов квантовых процессоров и выявление дефектов фотошаблонов. Таким образом, разработка не является миниатюрной версией машины ASML, но может оказаться чрезвычайно полезной для научно-исследовательских работ и мелкосерийного производства. В то время как машины ASML используют технологию лазерно-индуцированной плазмы, требующую огромных коллекторных зеркал, которые Китай, как сообщается, пока не может производить внутри страны, новый прибор применяет фемтосекундный лазер, воздействующий на газ аргон. Эта установка генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение с помощью процесса, известного как генерация высоких гармоник. Такой подход означает, что устройство не требует гигантских зеркал и не зависит от оловянных капель, что делает систему значительно проще. Она способна производить настраиваемые длины волн в диапазоне от 1 до 200 нанометров.

Источник: New-Science.ru https://new-science.ru/mirovoj-proryv-v-sozdanii-sverhsilnyh-magnitov-otkryvaet-put-k-kommercheskomu-termoyadernomu-sintezu/

Ученые создали двигатель, работающий ночью за счет холода космоса Прорыв в защите электроники: создана прозрачная пленка, блокирующая 99% электромагнитных помех